真空型傅里葉變換紅外光譜儀FI-RXF300V，是全新推出的一款研究級紅外光譜儀。與傳統(tǒng)的紅外光譜儀不同，真空紅外，顧名思義，就是采取全真空光學設計，所有紅外光路及樣品均處于真空環(huán)境中，測試過程無需擔憂大氣中 CO2 和水蒸氣的強吸收帶來的影響。這種設計，既提高了整體光路的光通量，又有利于檢測諸如單分子層薄膜的弱信號。目前，真空型紅外已經(jīng)廣泛應用在納米表面分析、聚合物工業(yè)、材料科學、制藥、半導體及催化等領域。

FI-RXF300V 真空型紅外光譜儀，整機采用全鑄鋁材質，獨立式光學腔設計，配置無油減震泵，可對整體光學腔進行快速抽真空，并實時顯示真空度。主機配置有密封隔離罩，用戶可以單獨對樣品腔進行真空操作，極大提高用戶的測樣效率。

FI-RXF300V 真空型紅外光譜儀，可選配近-中-遠全紅外波段，標配紅外元器件，一次測量即可采集樣品的中紅外及遠紅外譜圖，覆蓋 6000-50cm-1 光譜范圍，獲得樣品分子全部的振動和轉動結構信息，而無需擔心遠紅外波段強烈的水蒸氣吸收干擾。此外，F(xiàn)I-RXF300V 可以配置外置水冷汞燈光源及液氦 Bolometer 檢測器，使用戶的測量范圍擴展到 10 cm- 1，達到太赫茲的研究波段。同時，用戶可以更換近紅外光學系統(tǒng)，軟件自動切換光路，使光譜范圍達到 12500cm- 1，在同一光學平臺上，真正實現(xiàn)遠、中、近紅外譜區(qū)的研究。除了標配的光路之外，F(xiàn)I-RXF300V 可以配置多個外接光路口，連接各種外置光學腔，比如 UHV 真空密封腔、低溫杜瓦、高溫發(fā)射紅外腔、外置樣品腔、外置檢測器腔等，極大豐富了研究者的光學平臺和研究領域。

FI-RXF300V 配置有各類無機化合物、有機金屬絡合物、聚合物、添加劑、有機化合物等紅外光譜數(shù)據(jù)庫，數(shù)據(jù)庫全部顯示中文名稱。此外，軟件提供用戶快速自建庫功能，允許用戶開發(fā)新的中文數(shù)據(jù)庫，以便不斷更新自我檢測能力。

真空型傅里葉變換紅外光譜儀FI-RXF300V產(chǎn)品特點

● 全真空的光學設計，真空度≤0.2mbar；

● 軟件自動切換近、中、遠譜區(qū)檢測器和光源覆蓋整個紅外譜區(qū) 12,500-10cm-1；

● 一次測量獲取中、遠譜區(qū)的光譜信息： 6,000-50cm- 1；

● 高光譜分辨率： ≤0.25cm-1;

● 去除大氣中水蒸汽、CO2 的強吸收干擾；

● 不受實驗室環(huán)境溫度變化的影響；

● 光通量更高，更靈敏；

● 穩(wěn)定性更高，可重復性更好；

● 可配備純金剛石晶體的 ATR 附件，實現(xiàn)真空狀態(tài)下測量；

● 可整體或單獨對樣品腔進行抽真空，提高測試效率;

● 可配置多個外接光路口，連接各種外置光學腔，如 UHV 真空密封腔、低溫杜瓦、高溫發(fā)射紅外腔、外置樣品腔、外置檢測器腔等;

● 可連接長光程氣體池，測量高分辨氣體光譜。

真空型傅里葉變換紅外光譜儀 FI-RXF300V產(chǎn)品參數(shù)

配置清單

應用領域

● 自組裝超薄膜研究

● UHV 真空密封超高真空腔

● 低溫基質隔離

● 硅單晶中 III、V 族雜質的定量(B,P,Al,Sb,As,Ga,In)

● 真空環(huán)境下對催化劑進行原位漫反射表征

● 無機及有機配位化合物的研究

● 分子晶體的晶格振動吸收

● 氣體分子的純轉動光譜的研究